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公司基本資料信息
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太陽能電池?fù)诫s專用激光設(shè)備
Laser Doping
激光摻雜機(jī)
本設(shè)備將激光技術(shù)運(yùn)用到太陽能硅片表面非接觸式激光加工技術(shù),選擇一種特殊的新型激光器,配合適當(dāng)光學(xué)系統(tǒng),在硅表面形成一層刻痕,經(jīng)過清洗之后對(duì)刻痕區(qū)域進(jìn)行摻雜,最后用電鍍或絲印的方式在槽內(nèi)形成電極,以起到前表面電接觸柵極的作用。用這種方法制備的電極度很窄具有很低的表面覆蓋率,而且還具有高的縱深比,能夠更好地吸收載流子,可以提高太陽電池的開路電壓Voc,短路電流Isc和填充因子F.F.,從而提高光一電轉(zhuǎn)換效率。
應(yīng)用領(lǐng)域及用途:
晶體硅太陽能電池選擇性擴(kuò)散(LDSE),激光摻雜機(jī)是一款在太陽能電池制作過程中用來作選擇性重?fù)教岣咛柲茈姵匦实膶S眉す庠O(shè)備。利用激光將電池片表面磷源作選擇性摻雜形成重?fù)诫s區(qū)以降低歐姆接觸,結(jié)合前道工序的輕摻雜發(fā)射結(jié)和后道工序的電鍍或絲印工藝形成柵極以達(dá)到提高電池效率和帶負(fù)載能力的功效。
設(shè)備特征:
兩工位、六工位、12工位全自動(dòng)平臺(tái)
可配備自動(dòng)化裝卸系統(tǒng)
激光功率自動(dòng)監(jiān)測(cè)
破片自動(dòng)檢測(cè),碎片率<2‰
加工速度>5m/s
擴(kuò)散深度>0.6um
適用硅片單晶/多晶 125mm×125mm/156mm×156mm硅片