這兩天,燒結(jié)后測(cè)試電池片性能參數(shù),發(fā)現(xiàn)極不穩(wěn)定.有以下幾種情況:
1.開始一批效率基本上16.3左右,下一批用相同的燒結(jié)參數(shù),效率就大幅下滑,低效片很多(不計(jì)入合格片),平均效率在15.5左右.
2.個(gè)別片子開路電壓在0.59伏左右,但短路電流也變成了0.6安左右,重?zé)笮视兴嵘?但提升不大,這種情況從沒遇見過.
3.燒結(jié)參數(shù),維持帶速不變(5.26m/min,這個(gè)參數(shù)是否過大?影響燒結(jié)的穩(wěn)定性?),燒了20片,出現(xiàn)了15.5以上的16片,4片低效片.重?zé)托?效率能升到15左右,這四片低效片應(yīng)該是沒有燒好,同一批片子,燒結(jié)好壞程度不同，是什么原因造成的呢?SIN膜不均勻?還是燒結(jié)重復(fù)性不好?抑或是其他原因?
4.大家有沒有碰到過 晚上燒結(jié)不穩(wěn)定這種問題?我晚上更改參數(shù)后,將8區(qū) 9區(qū) 溫度提高到876 882, 帶速不變5.27,燒出的片子(4片)低效,用萬用表測(cè)試其暗電壓,其值為241mv.判斷是沒有燒好,而不是燒穿,這么判斷是否正確?白天不用那么高的溫度,能穩(wěn)定燒出16.5左右的電池片?這是怎么回事?

5.電阻率越大的硅片,擴(kuò)散后結(jié)深越大,結(jié)深了,就不易燒透,有電阻率的原因么?
6.國(guó)產(chǎn)PECVD長(zhǎng)膜時(shí)間為120s,而進(jìn)口設(shè)備長(zhǎng)膜時(shí)間720s,國(guó)產(chǎn)PECVD長(zhǎng)膜的均勻性和致密性是否存在不穩(wěn)定的情況?該如何改進(jìn)?